EUVL

EUVL
Extreme Ultra- Violet Lithography (Governmental » NASA)
Extreme Ultra- Violet Lithography (Governmental » US Government)
Extreme Ultra- Violet Lithography (Academic & Science » Electronics)
Extreme Ultra- Violet Lithography (Governmental » Military)

Abbreviations dictionary. 2012.

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  • EUVL — EUV Lithografie (auch kurz EUVL, Abkürzung für engl.: Extreme Ultra Violet) ist ein Fotolithografie Verfahren, das Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer (91,82 eV) nutzt (vgl. Ultraviolettstrahlung). Dies soll es ermöglichen, auch… …   Deutsch Wikipedia

  • EUVL — ● ►en sg. f. ►ELECTRON Extreme Ultra Violet Lithography. Lithographie utilisant des rayons ultra violets pour tracer des circuits. L intérêt est que la longueur d onde utilisée est plus courte que celle de la lithographie optique, ce qui permet… …   Dictionnaire d'informatique francophone

  • EUVL — abbr. Extreme UltraViolet Lithography comp. abbr. Extreme Ultraviolet Lithography …   United dictionary of abbreviations and acronyms

  • Extreme ultraviolet lithography — (also known as EUV or EUVL ) is a next generation lithography technology using the 13.5 nm EUV wavelength. EUVL opticsEUVL is a significant departure from the deep ultraviolet lithography used today. All matter absorbs EUV radiation. Hence, EUV… …   Wikipedia

  • Фотолитография в глубоком ультрафиолете — Схема работы литографии в EUV. Фотолитография в глубоком ультрафиолете (Extreme ultraviolet lithography, EUV, EUVL …   Википедия

  • EUV-Lithografie — (auch kurz EUVL) ist ein Fotolithografie Verfahren, das elektromagnetische Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 nm (91,82 eV) nutzt, sogenannte extrem ultraviolette Strahlung (englisch extreme ultra violet, EUV). Dies soll es… …   Deutsch Wikipedia

  • EUV-Lithographie — EUV Lithografie (auch kurz EUVL, Abkürzung für engl.: Extreme Ultra Violet) ist ein Fotolithografie Verfahren, das Strahlung mit einer Wellenlänge von 13,5 Nanometer (91,82 eV) nutzt (vgl. Ultraviolettstrahlung). Dies soll es ermöglichen, auch… …   Deutsch Wikipedia

  • Multiple patterning — is a class of technologies developed for photolithography to enhance the feature density. The simplest case of multiple patterning is double patterning, where a conventional lithography process is enhanced to produce double the expected number of …   Wikipedia

  • ASML — Holding N.V. Тип публичная (Euronext: ASML, NASDAQ: ASML Год основания …   Википедия

  • Photoresist — A photoresist is a light sensitive material used in several industrial processes, such as photolithography and photoengraving to form a patterned coating on a surface. Contents 1 Photoresist categories 1.1 Tone 1.2 Developing light wavelength …   Wikipedia

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