- TDMAT
- Tetrakis DiMethylAmido Titanium (Academic & Science » Chemistry)
Abbreviations dictionary. 2012.
TDMAT
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TDMAT — Strukturformel Allgemeines Name Tetrakis(dimethylamino)titan Andere Namen TDMAT S … Deutsch Wikipedia
Tetrakisdimethylamidotitanium — Strukturformel Allgemeines Name Tetrakis(dimethylamino)titan Andere Namen TDMAT S … Deutsch Wikipedia
Tetrakis(dimethylamino)titanium(IV) — Chembox new Name = Tetrakis(dimethylamino)titanium(IV) ImageFile=TDMAT.png ImageSize=150px IUPACName = Tetrakis(dimethylamido)titanium(IV) OtherNames = titanium(IV)dimethylamide, TDMAT, tetrakis (dimethylamido) titanium(IV) Section1 = Chembox… … Wikipedia
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Chemical Vapour Deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
Chemical vapor deposition — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapor deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden.… … Deutsch Wikipedia
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Metalorganic chemical vapor deposition — (MOCVD) is a chemical vapor deposition process that uses metalorganic source gases. For instance, MOCVD may use tantalum ethoxide (Ta(OC 2H 5) 5), to create tantalum pentoxide (Ta 2O 5), or Tetrakis Dimethyl Amino Titanium(IV) (TDMAT) to create… … Wikipedia
Chemische Gasphasenabscheidung — Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (englisch chemical vapour deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und… … Deutsch Wikipedia
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